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cvd系统o1200-xt22d2f

发布时间: 2018-11-28    浏览次数:5012

设备简介:化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;  

  

产品详情
应用领域
产品视频
应用案例

nbd-101e嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,非线性式样温度修正;

产品型号

nbd-o1200-xt22(炉管直径50、60、80、100mm可选)

工作温度

≤1150℃

加热区尺寸

200mm 200mm(双温双控)

升温速率

≤20℃/min

电气规格

ac 220v  4kw

气体系统(可选购)

流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-250/20-800ml/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15mpa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-1.5c

nbd-3c

nbd-4c

抽气速率

1l/s

3l/s

4l/s

进排气口尺寸

φ8mm宝塔接头

φ8mm宝塔接头

kf16/25

极限压力

1000pa

100pa

10pa

工作温度

5-40℃

电气规格

ac220v

高真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-103(a)

nbd-103(b)

nbd-103(c)

抽气速率

110l/s

600l/s

700l/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3pa

10^-4pa

10^-5pa

工作温度

5-40℃

电气规格

ac 220v

ac 220v

ac 380v

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746


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